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NIMO MATRIX批次測(cè)量-人工晶體

發(fā)表時(shí)間:2023-03-24      點(diǎn)擊次數(shù):1815

NIMO MATRIX批次測(cè)量-人工晶體采用享譽(yù)世界的NIMO技術(shù)及其應(yīng)用優(yōu)勢(shì),批次測(cè)量數(shù)千人工晶狀體,滿足生產(chǎn)線大批次測(cè)量需求。

單個(gè)工作日即可測(cè)量數(shù)千人工晶狀體

單次點(diǎn)擊可檢測(cè)多達(dá)121片人工晶狀體

每小時(shí)可檢測(cè)200至400片人工晶狀體

高分辨率光焦度測(cè)繪儀及波前像差分析儀

適用單焦、環(huán)曲面、多焦、多焦環(huán)曲面各種人工晶狀體

靈活的矩陣托盤設(shè)計(jì)

一次性校準(zhǔn)

適用于干濕檢測(cè)環(huán)境

針對(duì)測(cè)量時(shí)達(dá)到液體無波動(dòng)狀態(tài)而設(shè)計(jì)的固定IOL矩陣盤

應(yīng)用范圍

適用于單焦、環(huán)曲面、多焦、多焦環(huán)曲面人工晶體

適用標(biāo)準(zhǔn):YY0290 


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